Projekt dedykowany dla Poznań Art Week 2020 on-line „Remedium” przez duet artystów z Hong Kongu – Benny’ego Au i Teresę Chan. Ta fotograficzna impresja jest odpowiedzią na obecną sytuację kwarantanny i zamknięcia. Przywodzi ona na myśl „ucieczkę w świat fantazji” lub wewnętrzną imigrację w poszukiwaniu piękna. Może być jednak również interpretowana na wiele innych sposobów. Jak mówią sami twórcy:
Przygotowaliśmy do grupę zdjęć. Uznaliśmy, że lepiej byłoby odpowiedzieć na temat <<Remedium>> na różnych obrazach, tak, aby każdy mógł wybrać ten, który jest mu najbliższy. Można jedynie dodać, że początkowo rozpoczęliśmy pracę nad Grupa plakatem podobnym do obrazu, ale nasz idea przerodziła się w serię zdjęć. Tytuł pracy brzmi Just be! („po prostu bądź!”), co odzwierciedla nasze odczucia i wyobrażenie o tym, jak sztuka, kreatywność i design powinny reagować w obecnych czasach. Zasadniczo chcielibyśmy powiedzieć „po prostu bądź” (sobą / kimkolwiek chcesz) bez względu na okoliczności. Liczysz się Ty (jako osoba).
